プラズマ装置を使う理由とは

半導体や電子機器、レンズなどを製造する企業は製品の品質だけでなく生産性も考慮しなければなりません。精密機器は製造途中で有機物や無機物による細かな汚れが発生するため、何らかの方法で除去する必要があります。アンモニアや塩酸、過酸化水素水や純水を使用するウェット洗浄は比較的簡単に行うことができます。ウェット洗浄には薬液に対象物を浸す方法と、スプレー状にした薬液を吹きかける方法があります。

前者は静電気が発生するリスクがなく細かな部分まで洗浄でき、超音波やバブリングを併用すればさらに効果が向上します。後者は再汚染が起こりにくく、浸す方法と比べると薬液が少量で済み作業を短時間で終わらせることができます。ウェット洗浄は比較的簡単な方法ですが、薬液を洗い流して乾燥させるため時間がかかります。また高価な超純水を使用するのでコストがかかるというデメリットも存在します。

多くの工場ではコストパフォーマンスが優れているプラズマ装置を使い、精密機器の洗浄作業が行われています。プラズマ装置はドライ洗浄を行うため効率的で高価な薬液などを使用しません。精密機器は完成までに何度も洗浄作業を繰り返さなければならず、生産性を高めるには1回あたりの作業時間を短縮する必要があります。プラズマ装置は扱いが多少難しいものの、上手く活用すれば製品の品質と生産性の両方が大幅に向上します。

この装置にはRIEモードとDPモードという2種類の処理方式があります。前者は主にアルゴンガスを使うタイプで、加速したアルゴンイオンを有機物や無機物に衝突させて弾き飛ばします。後者は主に酸素ガスを使うタイプで、酸素原子が化学反応で有機物を二酸化炭素と水分子に変えます。精密機器を製造する工場では、コストを抑えつつ品質と生産性を向上させるためこれらのプラズマ装置が活躍しています。

返信を残す

メールアドレスが公開されることはありません。 * が付いている欄は必須項目です