プラズマ洗浄装置がドライ洗浄を行う方法とは

プラズマ洗浄装置は薬液を使わないので効率的に汚れを取り除くことができます。半導体などの精密機器を製造するには、有機物や無機物による細かな汚れを取り除かなければなりません。アンモニアや塩酸などの薬液を使う方法だとリンスで洗い流して乾燥させる必要があり時間がかかります。洗浄作業は1回だけでなく何度も行うため、ドライ洗浄を行うプラズマ洗浄装置の方がウェット洗浄より効率的です。

短い納期で高品質な製品を納品する必要がある多くの企業が、精密機器を洗浄するためプラズマ洗浄装置を導入しています。この装置は高周波電力によって電極間に印加しプラズマを発生させます。主にアルゴンガスを導入するタイプと酸素ガスを導入するタイプがあり、それぞれメカニズムが異なります。前者はアルゴン原子が電離されてプラス電荷のイオンとマイナス電荷の電子に分かれます。

気体にエネルギーを与え続けると分子から原子が離れ、最後にイオンと電子に分かれたプラズマの状態になります。アルゴンガスを使うタイプは、加速したイオンを有機物や無機物に衝突させ弾き飛ばします。主に酸素ガスを使うタイプは高周波電力によって酸素分子から原子が離れ、有機物と化学反応を起こして水分子と二酸化炭素に変えます。アルゴンガスを使うタイプは物理的に汚れを弾き飛ばしましたが、このタイプは化学反応を利用します。

2種類のプラズマ洗浄装置は異なる方法でドライ洗浄を行い細かな汚れを取り除きます。

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