半導体などの製造に不可欠なプラズマクリーナー

半導体などの精密機器を製造するには、有機物や無機物による細かな汚れを取り除く必要があります。汚れを放置すると製品の品質が低下し、クレームなどトラブルの原因になるので注意しなければなりません。企業が顧客からの信頼を得て安定した事業運営を行うためには、適切な方法で素早く汚れを取り除き短い納期で高品質な製品を納品することが大切です。精密機器から汚れを取り除く方法にはドライ洗浄とウェット洗浄の2種類があり、前者の方が効率的に汚れを除去できます。

ウェット洗浄は塩酸やアンモニアなどの薬液に対象物を浸したり、スプレー状にして吹きかけて汚れを除去します。この方法だと簡単に汚れを取り除くことができますが、最後に薬液を洗い流して乾燥させなければなりません。精密機器は完成までに何度も洗浄作業を繰り返すので、納期を短縮するには1回あたりの作業時間を短くする必要があります。ウェット洗浄でも汚れを取り除くことができるものの、作業に時間がかかるため納期を短縮するにはドライ洗浄の方が適しています。

プラズマクリーナーはドライ洗浄によって精密機器の表面に付着した汚れを素早く取り除きます。この装置には主にアルゴンガスなどを使うタイプと酸素ガスなどを使うタイプが存在します。アルゴンガスを使うタイプは有機物と無機物の両方に対応しており、酸素ガスを使うタイプは有機物に対応しています。汚れの状況に応じて最適なプラズマクリーナーを使えば、製品の品質だけでなく生産性も向上させることが可能です。

高品質な精密機器を効率的に製造するため、プラズマクリーナーが不可欠な存在となっています。

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